
TSMC Exec says ASML €350 million lithography tool too expensive, no purchase planned
台積電聯合首席運營官張曉強在北美技術研討會上宣佈,公司將不會購買 ASML 的高 NA EUV 光刻機,單價超過 3.5 億歐元,認為其價格過於昂貴。台積電認為其現有的 EUV 系統足以滿足生產需求。此決定可能會影響 ASML 在 2027-2028 年的大規模生產計劃以及其到 2030 年實現 600 億歐元收入目標的計劃
在週四,台積電的聯合首席運營官張曉強在北美技術研討會上表示,公司沒有計劃購買 ASML 最新的高 NA EUV 光刻機,理由是每台設備的價格超過 3.5 億歐元,過於昂貴。儘管該設備可以將芯片製造精度提高到低於 1.4 納米,台積電認為現有的 EUV 系統仍然足以滿足生產需求。作為 ASML 最大的客户,台積電的決定可能會影響該公司計劃在 2027-2028 年進行的大規模生產推廣,以及其 2030 年 600 億歐元的收入目標。[TechWeb,中文]
