
ASML plans to raise prices for some lithography machines, which may lead to conflicts with Taiwan Semiconductor
阿斯麥計劃上調部分低數值孔徑 EUV 光刻機價格,因市場需求激增及客户業績強勁。此舉引發最大客户台積電抵制,雙方可能產生矛盾。阿斯麥預計全年淨銷售額達 430-450 億歐元,並擴大產能以滿足需求。
阿斯麥計劃上調芯片製造設備價格,此舉可能導致其與最大客户台積電產生矛盾。
台積電已開始抵制這家荷蘭設備製造商的漲價計劃。
阿斯麥生產製造先進半導體所必需的尖端極紫外光(EUV)光刻機。得益於人工智能熱潮,市場對 EUV 光刻機的需求持續激增。
RBC Capital Markets 分析師 Srini Pajjuri 等人在週一的報告中表示,包括台積電、三星電子、SK 海力士在內的客户業績強勁,當前環境 “具備漲價條件”。
阿斯麥首席財務官 Roger Dassen 在週三業績電話會上也提及,公司可能上調性能較低的低數值孔徑 EUV 光刻機價格。
他説:“我們在持續提升低數值孔徑 EUV 光刻機的生產效率,這自然為未來進一步提高價格提供了相當大的空間。”
他補充稱,由於設備訂單交付週期較長,任何價格調整都不會 “立即反映到定價上”。
阿斯麥還表示,其客户英特爾已開始使用公司最先進的光刻機進行芯片生產。阿斯麥首席執行官 Christophe Fouquet 表示,這表明該設備具備商業化應用前景。
此前,台積電曾表示,這款設備單價超過 3.5 億歐元(約合 4.1 億美元),成本過高,不適合用於量產,目前僅用於研發。
阿斯麥今年第二次上調全年銷售預期,並公佈擴大產能計劃以滿足持續增長的設備需求。公司預計,今年淨銷售額將達到 430 億至 450 億歐元,明顯高於分析師預期。
