英特尔重振雄风计划的一次巨型试验！
当地时间周一，芯片巨头英特尔宣布扩建其位于美国俄勒冈州的 D1X 芯片研发工厂。该项目投资 30 亿美元，旨在加速技术开发，帮助英特尔重新获得芯片行业的领先地位。
英特尔重申，计划到 2025 年拥有比竞争对手更先进的生产技术，并提前一年使其工厂与其竞争对手打平。
据英特尔高级副总裁 Sanjay Natarajan 介绍，工厂扩建面积为 27 万平方英尺，完成后将使 D1X 工厂的规模增加 20%。
Natarajan 指出，D1X 工厂实际上是一个巨大的实验室，此次扩建将使其更有能力同时开发多种制造技术，并将它们应用到英特尔其他工厂的大规模生产。
据福布斯新闻介绍，升级后的 D1X 工厂将带来新的洁净室空间 (一种特殊的晶圆和芯片处理空间，可在其环境中维持极低的空气颗粒物含量)，并着重开发尖端 EUV 光刻技术。
从历史上看，英特尔缺乏对 EUV 的重视，导致该公司在半导体工艺技术方面失去了一些竞争基础，但这种情况正在迅速改变。
此前，英特尔曾宣布计划共投入 1000 亿美元在美国俄亥俄州建造世界最大芯片工厂，并计划未来 10 年在欧洲投入800 亿欧元用于芯片研发、制造，以及先进的封装技术。