据报道，美光将在日本广岛的工厂安装荷兰 ASML 公司的先进芯片制造设备 EUV 光刻机，以制造下一代存储芯片。
据彭博社周四报道，美国存储芯片大厂美光科技将把 EUV 光刻技术引入日本，投资 5000 亿日元用于 1-Gamma 工艺技术。美光也将获得日本政府提供的约 2000 亿日元（15 亿美元）的补贴。
报道援引知情人士称，美光将利用这笔补贴，在广岛工厂安装荷兰 ASML 公司的先进芯片制造设备 EUV（极紫外光刻机），以制造下一代存储芯片（DRAM）。这项资金计划可能会在日本首相岸田文雄周四会见包括美光首席执行官 Sanjay Mehrotra 在内的芯片高管代表团时宣布。
报道称，美光新引入最先进的光刻机并开始 1-Gamma 芯片的开发，也代表着日本在芯片尖端领域的最新一步。
除了研发 DRAM 的美光之外，日本政府已经花费数十亿美元鼓励台积电增加其在日本的芯片产能，并为日本本土芯片企业 Rapidus 提供资金，以实现在 2027 年生产 2 纳米芯片的梦想。
研究公司 Omdia 的分析师 Akira Minamikawa 表示，美光的广岛工厂将在 G7 半导体供应链计划雄心中发挥关键作用，它将成为这家美企发展的最重要地区之一。
自 2013 年以来，美光已经在日本投资超过 130 亿美元，其中包括去年宣布的 1-beta 存储芯片。而最新的投资将帮助美光在日本生产所谓的 1-Gamma 芯片，这是美光计划在 2024 年底推出的更先进技术。美光的供应商将因此受惠，包括东京威力科创 (Tokyo Electron) 和荷兰 ASML。
美光预期会把自有资金投入广岛厂的拓展，但目前其尚未披露确切消息。广岛市政府预料也可能提供额外支持。